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DPSS

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ns laser

EV10 / EV10G / EV20

  • Wafer marking, photovoltaic scribing등 안정성이 요구되는 laser 응용 및 범용 laser marking을 적용할 목적으로
    제작된 laser 모델입니다. Diode pumped solid-state laser로 종방향 펌핑(end-pumping) 방식을 채택하여 소형화가
    가능하고 광자 효율이 높습니다. 또한 안정된 출력과 긴 수명의 장점이 있습니다.  이공냉을 통한 간편성을 추구하였고
    장비 구축 시에도 다양한 핸들러와 적용라인에 적용하기 쉽도록 제작하였습니다.

V10 / V20 / V20G

  • 차세대 레이저 마킹 기술을 적용하여 고속의 마킹, 식각, 에칭 작업에 탁월한 성능을 발휘합니다.
    특히 green 마커는 LED package 마킹에 적합하며 초소형 마킹 가능한 최적의 솔루션을 제공합니다.

LV100G-R2

  • LV100G-R2는 고체 기반의 end-pumped 방식의 고품질, 고출력 및 high peak power의 ns 레이저 입니다.
    Metal 및 반도체 cutting 장비에 적용 가능합니다.

i400 / i600 / i800 / i1600 / i3200

  • 고체 기반의 다이오드 펌핑 방식 레이저로 1064nm 파장에서 400~3200W까지의 모델이 있습니다. 최대 3kW 이상의 피크 파워를 제공합니다. 또한 검증된 견고한 헤드 디자인 및 맞춤형 제어 시스템은 OEM 장비 및 산업용 어플리케이션에 적합합니다.

g200 / g400

  • 고체 기반의 다이오드 펌핑 방식 레이저로 532nm 파장에서의 높은 평균 출력 및 에너지를 제공 합니다.
    또한 견고한 헤드 디자인 및 맞춤형 제어 시스템은 산업용 어플리케이션에 이상적으로 적합한 플랫폼을 제공합니다.

u80 / u180

  • 고체 기반의 다이오드 펌핑 방식 레이저로 355nm 파장에서 최대 180W의 높은 출력을 제공 가능 합니다.
    또한 견고한 헤드 디자인 및 맞춤형 제어 방식은 산업용 어플리케이션에 이상적으로 적합한 플랫폼을 제공가능 합니다.

ps laser

EA200

  • EA200은 고체 기반의 고출력, 고에너지, 고품질을 갖는 피코초 레이저로써 반도체, 디스플레이, PCB등 대부분의 공정에
    적용이 가능합니다. 파장 및 주파수 변환을 통해 다양한 파라미터를 이용하여 최상의 품질로 가공이 가능합니다.

ESL040

  • ESL series는 15ps 이하의 짧은 펄스폭을 갖는 피코초 레이저로써 40W이상의 고출력을 갖는 모델입니다.
    우수한 레이저 출력과 펄스제어기술을 통해 최상의 가공품질을 보장합니다.

ESL005 / ESL010

  • 5W ~ 16W의 평균출력을 갖는 피코초 레이저로 컴팩트한 디자인 및 높은 빔 품질을 제공합니다.
    초정밀 가공에 최적화 되어있으며 IR 부터 UV까지 다양한 파장이 가능합니다.

fs laser

EA010

  • 고체 기반으로 10W급 평균 출력, 200μJ의 펄스 에너지를 갖는 펨토초 레이저입니다. 높은 첨두출력으로 비열, 초미세 가공이 가능합니다. 파장가변기술을 통해 적외선, 가시광선 및 자외선 파장으로 다양한 어플리케이션에 적용 할 수 있습니다.

ESF020

  • 광섬유 기반의 20W급 펨토초 레이저입니다.
    고반복률의 극초단펄스를 이용하여 다양한 초미세 가공 프로세스가 가능합니다.
    파장가변기술을 통해 적외선, 가시광선 및 자외선 파장으로 다양한 어플리케이션에 적용 할 수 있습니다.
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